Hafniumoxid

Hafniumdioxid ist eine chemische Verbindung, die in der Halbleiterproduktion als High-k-Dielektrikum oder als Vergütungs- oder Spiegelmaterial in der optischen Industrie eingesetzt wird. Es besitzt eine hohe Härte, eine geringe Wärmeausdehnung und ist chemisch Zirkondioxid (ZrO₂) sehr ähnlich.

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Eigenschaften und Verwendung

Hafniumdioxid ist ein weißes bis dunkelgraues, kristallines Pulver mit kubischer Kristallstruktur, das einen sehr hohen Schmelz- und Siedepunkt, sowie eine Dichte von 9,68 g·cm^-3 aufweist. Die Brechzahl beträgt 1,95 bis 2,00. Das Oxid ist praktisch unlöslich in Wasser und organischen Lösungsmitteln. Aufgrund seiner extrem hohen Dielektrizitätskonstante soll Hafniumdioxid bei der Produktion von Halbleiterbausteinen mit 45 nm-Struktur das bisher verwendete Siliciumdioxid ersetzen.^[3]

Einzelnachweise

1. ↑ ^{a b c d e f g} MSDS bei Alfa Aesar
2. ↑ Merck Chemdat : Hafnium(IV)-oxid
3. ↑ NZZ Online: (Noch) keine Grenzen für das Mooresche Gesetz, 23. Mai 2007