Um alle Funktionen dieser Seite zu nutzen, aktivieren Sie bitte die Cookies in Ihrem Browser.
my.chemie.de
Mit einem my.chemie.de-Account haben Sie immer alles im Überblick - und können sich Ihre eigene Website und Ihren individuellen Newsletter konfigurieren.
- Meine Merkliste
- Meine gespeicherte Suche
- Meine gespeicherten Themen
- Meine Newsletter
IonenplattierenDas Ionenplattieren (engl. ion plating) ist ein zu den PVD-Verfahren gehörende vakuumbasierte und plasmagestützte Beschichtungstechnik. Weiteres empfehlenswertes FachwissenGrundlagen des IonenplattierensUnter "Plattieren" versteht man in der Metallbearbeitung das Aufbringen einer höherwertige Metallschicht auf ein anderes Metall. Beim Ionenplattieren geschieht dies nicht durch Angießen oder Aufschweißen sondern über eine plasmagestützte Methode. Dabei wird zunächst die Substrat-Oberfläche mittels Ionenbeschuss aus dem Plasma gereinigt (ein sogenanntes „soft etch“ per Sputtern). Anschließend wird aus einer Verdampfer-Quelle Metalldampf zugeführt. Dieser ionisiert teilweise im Plasma und wird durch eine negative Vorspannung (0,3 bis 5 kV) am meist vorgeheizten Substrat auf dessen Oberfläche beschleunigt und bildet auf dem Substrat eine Schicht des verdampften Materials. Durch den ständigen Beschuss mit Metallionen wird immer wieder ein Teil des Substrats bzw. der Schicht abgetragen (abgesputtert). Die gelösten Atome kondensieren wieder auf dem Substrat und tragen zur Schichtbildung bei. Der ständige Ionenbeschuss modifiziert die Schichteigenschaften, so verbessert er meist die Haftung der Schicht. Die entstehende Schichtstruktur häng dabei stark von der Temperatur des Substrates ab. Typische Arbeitsdrücke für das Ionenplattieren liegen bei 5 Pa. VariantenNeben dem normalen Ionenplattieren gibt es noch eine reaktive Variante, das Reaktive Ionenplattieren (RIP). Dabei wird zusätzlich ein reaktives Gas in das Plasma eingebracht, das ebenfalls ionisiert, mit dem zerstäubten Metall reagiert und eine Schicht aus der entstehenden Verbindung bildet. Auf diese Weise werden z. B. Titannitrid-Schichten aus Titan-Dampf und eingeleitetem Stickstoff erzeugt. Kategorien: Beschichten | Oberflächenphysik |
Dieser Artikel basiert auf dem Artikel Ionenplattieren aus der freien Enzyklopädie Wikipedia und steht unter der GNU-Lizenz für freie Dokumentation. In der Wikipedia ist eine Liste der Autoren verfügbar. |