Nano-Dünen mit dem Ionenstrahl
SIMIT, Chinese Academy of Science
Ionenbeschuss unter Temperatur
Bei normaler Zimmertemperatur zerstört der Ionenstrahl allerdings die Kristallstruktur des Galliumarsenids und damit seine Halbleiter-Eigenschaften. Deshalb nutzt die Gruppe um Dr. Facsko im Ionenstrahlzentrum des HZDR die Möglichkeit, die Proben während des Ionenbeschusses zu heizen. Bei rund 400 Grad Celsius heilen die zerstörten Strukturen rasch wieder aus.
Ein weiterer Effekt sorgt nun dafür, dass Nano-Dünen auf der Halbleiter-Oberfläche entstehen. Die aufprallenden Ionen verschieben nicht nur die getroffenen Atome, sondern schlagen auch einzelne Atome ganz aus dem Kristall heraus. Da das flüchtige Arsen nicht an der Oberfläche gebunden bleibt, besteht die Oberfläche bald nur noch aus Gallium-Atomen. Um die fehlenden Bindungen zu den Arsen-Atomen zu kompensieren, bilden sich Paare aus zwei Gallium-Atomen, die sich in langen Reihen anordnen. Schlägt der Ionenstrahl gleich daneben weitere Atome heraus, können die Gallium-Paare über die entstandene Stufe nicht hinunter rutschen, weil die Temperaturen dazu zu niedrig sind. So entstehen aus den langen Reihen von Gallium-Paaren nach einiger Zeit winzige Nano-Dünen, bei denen etliche lange Paar-Linien nebeneinander liegen.
Viele Experimente bei unterschiedlichen Temperaturen und umfangreiche Berechnungen waren nötig, um einerseits den kristallinen Zustand des Halbleiter-Materials zu erhalten und andererseits wohl-definierte Strukturen im Nano-Maßstab zu erzeugen. „Die von uns entwickelte Methode der inversen Epitaxie funktioniert für unterschiedliche Materialien, doch zunächst nur in der Grundlagenforschung. Da wir aber besonders niederenergetische Ionen verwenden, die einfach herzustellen sind, hoffen wir, dass wir einen Weg für die industrielle Umsetzung aufzeigen können. Die Industrie muss ähnliche Strukturen heute noch viel aufwändiger fabrizieren“, so Dr. Facsko vom HZDR.
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