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DM8000 M & DM12000 M von Leica

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Inspektionssysteme für höchsten Durchsatz

Bauweise verhindert Staubansammlungen und Eckenströmungen für saubere Analyse- und Inspektionskammer ✓ Maximale laterale Auflösung mit 150X UV-Objektiv ✓ Das 0,7x USP-Objektiv ermöglicht ein größeres Sichtfeld und verkürzt die Analysezeit ✓

Optische Inspektionssysteme Wafer-Analyse chemische Forschung und Entwicklung
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