Anwendungen der Quadrupol-Massenspektrometrie für die Atomlagenabscheidung (ALD)

Die Leistung und Zuverlässigkeit von Quadrupol-Massenspektrometern (QMS) hat sich in den letzten Jahren deutlich verbessert. Diese werden umfassend in einer Reihe von Anwendungen der Halbleiterfertigung als Restgasanalysatoren (RGA) eingesetzt.

Heute werden RGA-Systeme häufig zur Überwachung, Optimierung und Steuerung verschiedener vakuumbasierter Prozesse eingesetzt. Neue Innovationen in der RGA-Technologie und den Produkten bieten einen signifikanten analytischen Nutzen, der die Optimierung und Überwachung von Atomic Layer Deposition (ALD) und Atomic Layer Etch (ALE) Prozessen ermöglicht. Zu den bemerkenswerten Entwicklungen gehören eine verbesserte Empfindlichkeit, Nachweisgrenzen und Robustheit der QMS-Systeme (RGA).

In diesem Artikel stellen wir Lösungen für eine verbesserte Ionenquellentechnologie und Systemrobustheit sowie spezifische Anforderungen und Lösungen für QMS (RGA)-Anwendungen für Thermal ALD- und Plasma Enhanced (PE)ALD-Prozesse vor.