International erfolgreich – Erlanger Doktorandin holt Cymer Award nach Europa
Die Erlanger Wissenschaftlerin Viviana Agudelo Moreno wurde mit dem „Cymer Scientific Leadership Award, Best Student Paper, SPIE Advanced Lithography 2013, Optical Microlithography Conference XXVI“ ausgezeichnet. Viviana Agudelo ist Stipendiatin der Erlangen Graduate School in Advanced Optical Technologies (SAOT) an der Universität Erlangen-Nürnberg und promoviert zum Thema „Kompakte Simulationsmodelle für lithographische Masken“ bei Dr. Andreas Erdmann in der Gruppe Lithographie der Abteilung Technologiesimulation des Erlanger Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie IISB. Die gebürtige Kolumbianerin erhielt den Preis für ihren Vortrag “Application of artificial neural networks to compact mask models in optical lithography simulation“ auf der SPIE Advanced Lithography Conference 2013 in San Jose, Kalifornien.
Conference-Chair und Cymer-Mitarbeiter Will Conley überreicht Frau Viviana Agudelo Moreno den Cymer Scientific Leadership Award auf der SPIE Advanced Lithography Conference 2013 in San Jose, Kalifornien.
© spie.org
Der von der Firma Cymer, Inc. gesponserte Preis wird seit 14 Jahren auf der SPIE für den besten Konferenz-Beitrag von Doktorandinnen und Doktoranden im Bereich der optischen Lithographie vergeben. Die SPIE Advanced Lithography ist die weltweit wichtigste Konferenz im Bereich Lithographie, die u.a. für Strukturierungsvorgänge bei der Herstellung mikroelektronischer Bauelemente und Schaltungen eine wichtige Rolle spielt.
Mit ihren herausragenden Forschungsergebnissen im Bereich der Modellierung lithographischer Masken für die Herstellung von Halbleiterchips ist es Frau Agudelo erstmals gelungen, diese Auszeichnung nach Europa zu holen. In der Vergangenheit ging der Preis meist an führende Forschungseinrichtungen aus den USA.
Frau Agudelo sieht die Bedeutung ihrer Arbeiten auf dem Gebiet der Lithographiesimulation so: „Neuronale Netzwerke werden heute in vielen Forschungsbereichen zur Lösung der unterschiedlichsten Probleme eingesetzt. Das Ziel meiner Arbeit ist die Formulierung möglichst kompakter Simulationsmodelle für die Entwicklung von lithographischen Masken, wie sie bei der Produktion von Mikrochips zur Anwendung kommen. Die Modelle sind ein wichtiger Beitrag für die Verbesserung der Produktionsprozesse in der Halbleiterindustrie und ich freue mich natürlich sehr über diese Anerkennung.“
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