Mercks Ralph R. Dammel erhält Frits-Zernike-Preis für Mikrolithographie
Dr. Ralph R. Dammel, früher Chief Technology Officer bei AZ Electronic Materials und jetzt in Performance Materials bei Merck tätig, wurde am 23. Februar 2015 bei einer Preisverleihung auf der SPIE Advanced Lithography 2015 mit dem Frits-Zernike-Preis für Mikrolithographie ausgezeichnet. Der Frits-Zernike-Preis wird jährlich für herausragende Leistungen in der Mikrolithographie-Technologie, insbesondere für Lösungen, die die Entwicklung von lithographischen Abbildungen in der Halbleitertechnologie fördern, verliehen. Seine bedeutenden Beiträge zur Entwicklung von Fotolacken, Antireflexbeschichtungen und Materialien für die gezielte Selbstanordnung (DSA) für die Halbleitermikrolithographie wurden von der Gesellschaft als höchst wertvoll anerkannt, und er wurde daher zum Preisempfänger für das Jahr 2015 ernannt.
Ralph Dammel hat mehr als 200 wissenschaftliche Arbeiten in der Chemie, Mikrolithographie und mehr als 90 Patentfamilien aus diesem Bereich veröffentlicht. Sein Buch „Diazonaphthoquinone-based Resists“ ist ein Standardlehrwerk in der technischen Optik. Er war seit 1986 bei AZ Electronic Materials und dessen Vorgängern in verschiedenen technischen Funktionen tätig, darunter Global R&D Director und Chief Technology Officer. Nach der Übernahme von AZ Electronic Materials durch Merck im Jahr 2014 übernimmt Dammel die Position des Head of Technology Office Chemicals US, um seine Kenntnisse weiterhin in die Entwicklungsbereiche der Lithographie und in neue Zukunftstechnologien einzubringen.
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